某半导体芯片制做工业企业因晶圆洗多种工序出现含氨焦化废水，出水量200吨/天。焦化废硫酸铜溶液除氧化还原电位外还富含氟化物和氢化物发生器血本属，治理难易大。偏远地区尾气排放基准想要氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水部分及源于 晶圆清理生活污水（重点源于）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程废水处理：含少量铜、镍等天价属，pH值浮动大 CMP研磨机污废水 ：含硅颗料及化学需氧量 治疗艺具体流程 使用"药剂学悠长岁月中+膜溶合+折点氯化"搭配组合加工： 预治理 ：污泥脱水CaCl2除氟，管控pH在7.5-8. 超滤膜系统性 ：的还原0.01μm左右顆粒物 反构建浓缩咖啡 ：将挥发酚浸提至1000mg/L往上 折点氯化 ：正确操作氯添加量，将氧化还原电位转化率为氢气 铝离子相互交换 ：服务天价属标准 之后结果 挥发酚安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属水平不高于检侧限 水回收利用率达75% 生活污水产生量减轻40%